此外，多弧镀涂层颜色较为稳定，尤其是在做 tin 涂层时，每一批次均容易得到相同稳定的金黄色，令磁控溅射法---。多弧镀的不足之处是，在用传统的 dc 电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm 时，金属镀钛公司，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。而且，项城镀钛公司，薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，装饰镀钛公司，因此沉积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。
带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。这就是离子镀的简单作用过程。
pvd技术四个工艺步骤
(1)清洗工件：接通直流电源，气进行辉光放电为离子，离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出；
(2)镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。
电子束蒸发镀膜
利用高速电子束加热使材料汽化蒸发，在基片表面凝结成膜的技术。电子束热源的能量密度可达104-109w/cm2，可达到3000℃以上，可蒸发高熔点的金属或介电材料如钨、钼、锗、sio2、al2o3等。
电子束加热的蒸镀源有直型电子和e型电子两种(也有环行)，电子束自源发出，用磁场线圈使电子束---和偏转，对膜料进行轰击和加热。
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