此外，多弧镀涂层颜色较为稳定，尤其是在做 tin 涂层时，每一批次均容易得到相同稳定的金黄色，令磁控溅射法---。多弧镀的不足之处是，在用传统的 dc 电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm 时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。而且，金属镀钛选，薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，阜阳镀钛选，因此沉积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。
其中热阴极电子蒸发离子镀，利用铜坩埚加热融化被镀金属材料，利用钽灯丝给工件加热、除气，利用电子增强离化率，不但可以得到厚度 3~5μm的tin 涂层，装饰镀钛选，而且其结合力、耐磨性均有---表现，处理镀钛选，甚至用打磨的方法都难以除去。但是这些设备都只适合于 tin涂层，或纯金属薄膜。对于多元涂层或复合涂层，则力不从心，难以适应高硬度材料高速切 削以及模具应用多样性的要求。
pvd是英文physical vapordeition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空---钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上沉积形成不同颜色和---的薄膜。pvd膜层赋予产品表面金属---和丰富的颜色，并---耐磨、耐腐蚀性，---。已经广泛应用于表壳、表带、手机壳、建筑五金、模具刀具等产品。
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