离子镀基本原理：在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在---负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。
九、离子镀的工艺过程：蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极（即工件）的吸引下，以---的速度注入到工件表面。
此外，多弧镀涂层颜色较为稳定，尤其是在做 tin 涂层时，每一批次均容易得到相同稳定的金黄色，令磁控溅射法---。多弧镀的不足之处是，在用传统的 dc 电源做低温涂层条件下，漯河镀钛加工选，当涂层厚度达到0.3μm 时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。而且，薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，处理镀钛加工选，耐磨性比磁控溅射法成膜差。
靶材承受的功率密度是有限的.靶面温度过高会导致靶材熔化或引起弧光放电.在直接水冷的情况下，金属靶材的靶功率密度允许值为10~30w/cm2.根据选定的靶电压和允许的靶功率密度，即可确定靶电流密度.
降低ar压强有利于提高镀膜速率，还有利于提高膜层结合力和膜层致密度.磁控溅射的ar压强通常选为0.5pa，真空镀钛加工选，气体放电的阻抗随ar压强的降低而升高.磁控溅射时，可以适当调节ar压强，
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