







在靶材和衬底之间加上一个直流高压,极板间的气体(一般为ar2)电离,高速带电离子轰击靶材表面的溅射镀膜技术。要保持自持放电,在两极板间距为数厘米的正常溅射间距下,放电气压一般---10帕,这对溅射效率和薄膜都是不利的。因此,直流溅射多采用非自持放电,也就是加入热电子发射极和辅助阳极的四极溅射,可使溅射在10-1~10-2帕的低气压下进行。

镀料原子、分子或离子在基体上沉积:工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
离子镀时,蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能,高速轰击工件时,不但沉积速度快,而且能够穿透工件表面,金属表面镀钛选,形成一种注入基体很深的扩散层,金属镀钛选,离子镀的界面扩散---可达四至五微米,砀山镀钛选,也就是说比普通真空镀膜的扩散---要深几十倍,甚百倍,因而彼此粘附得---牢。

产生原因:产品周转运输或在炉内生产时素材受到污染,产品表面有尘点、毛丝等,pvd出炉后灰尘脱落露出底材颜色。
解决方案:缩短产品在炉外停滞时间及炉内洁净度---,表面镀钛选,减少异物掉落在产品表面。
产生原因:主要原因是产品表面脏污,膜层无法在产品上沉积或结合力差,在自然或人为的因素下产品表面漏出底材。
解决方案:将产品清洗干净,避免污染产品,---表面洁净度。

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