通过溅射工艺涂覆薄膜有几个特点：金属，合金或绝缘体可以制成薄膜材料。相同组成的薄膜可以在适当的设置条件下由多个复杂的靶材制成。通过在放电气氛中添加氧气或其他活性气体，可以生产目标材料和气体分子的混合物或化合物。可以控制目标输入电流和溅射时间，并且容易获得---的膜厚。与其他工艺相比，有利于生产大面积的均匀薄膜。溅射的粒子不受重力影响，并且靶和基板的位置可以自由地布置。基材与薄膜之间的粘合强度是普通气相沉积薄膜的10倍以上，并且由于溅射的粒子具有高能量，因此表面将继续在成膜表面上扩散以获得坚硬而致密的表面电影。 次数用完api key 超过次数---
同时几种涂层的硬度均高于hv3000，而且在高温下可以有效的保持硬度，可以抵御高温金属液体对模具造成的应力变形。有涂层公司针对此问题研发了真空pvd镀膜涂层前处理的新技术，结合其它表面技术和真空pvd镀膜涂层复合作用，在---液体金属粘模和热龟裂方面取得了一定的成绩。例如hcvac研发了一款设备可以在同时完成压铸模具的软氮化 真空pvd镀膜涂层，有效的解决了传统涂层和氮化基体之间结合力差的问题，进一步提高了压铸模具的使用寿命。还有大多数公司则采用厚涂层的概念通过沉积足够厚度的涂层来提高模具的使用寿命。 次数用完api key 超过次数---
氮化钛的结构及性能
tin具有典型的nacl型结构，属面心立方点阵，面心立方的顶部是氮原子，钛原子位于面心立方的(1/2，0，0)空间位置。tin是非化学计量化合物，其稳定的组成范围为tin0.6~tin1.16，氮的含量可以在一定的范围内变化而不引起tin结构的变化。tin粉末一般呈黄褐色，处理镀钛选，超细tin粉末呈黑色，而tin晶体呈金黄色。tin的晶格常数为a=4.23 nm，tic的晶格常数为a=4.238 nm，tio的晶格常数为a=4.15 nm，这三种物质的晶格参数非常接近，所以tin分子中的氮原子可以被氧、碳原子以任意比取代形成固溶体，氮化钛的理化性质由氮元素的含量来决定，当氮元素含量减少时，氮化钛的晶格参数反而增大，硬度也会有显微的增大，但氮化钛的抗震性随之降低。 次数用完api key 超过次数---
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