现有镀膜工艺，多数均要求事先对工件进行严格清洗，既复杂又费事。然而，离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用，并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果，能使镀层直接贴近基体，有效地增强了附着力，简化了大量的镀前清洗工作。离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面，使大量的电能在工件表面转换成热能，从而促进了表层组织的扩散作用和化学反应。
真空镀钛是指在真空的环境下，采用弧光放电，把阴极钛靶作为蒸发源，通过钛靶与阳极机体之间的弧光放电，使钛靶材蒸发并形成离子体，产生的离子体高速向产品上运动，在产品表面进行沉积，形成了钛膜层。要想镀出坚固的钛层，首先要有好的设备。因为在镀膜过程中，真空系统必需要工作稳定，炉体保压要好，如果在镀膜过程中有杂气掺入，颜色就会不理想，---的还会脱钛。
射频溅射
采用射频电源代替直流电源，在靶和衬底间施加高频电压，金属镀钛加工选，溅射时，靶极会产生自偏压效应（即靶极会自动处于负电位状态），使绝缘靶的溅射得到维持。常用的频率约为13.56兆赫。
优点可以溅射所有材料，包括导体和绝缘体溅射可---生产
磁控溅射
磁控溅射通过在靶阴极表面引入正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面，成螺旋状运行来增强电离效率，增加离子密度和能量以增加溅射率。电源方面可同时配备直流和射频两种。
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